VENA-2000
分類: 射頻匹配器  發布時間: 2017-11-14 
VENA-2000

詳細介紹

VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設備PECVD等設備當中,主要功能是實現全自動匹配,解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準確,節省人力和時間等特點。可選的射頻系統檢測模塊可實時檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發現并顯著降低制程變化性。

優勢

●性能安全可靠,長時間工作穩定
●實時反射功率測量與控制
●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
●傳輸效率高,運行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發生器配合使用

特點

●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優化的匹配算法加速匹配時間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴格的可靠性測試

使用參數:

匹配功率范圍

0-2000W

工作頻率:

13.56MHZ

正常工作反射功率

<3W

匹配時間

<3S

傳輸效率

>90%

匹配器電源

AC220V/50-60HZ

輸入連接器

N型

輸出連接器

UHF

控制模式

手動/自動

可設預置點數

7

匹配阻抗范圍

實部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據負載調節阻抗)

匹配器尺寸

450X294X151MM

整機重量

9.5KG

冷卻方式

強制風冷加水冷

點擊次數:1463  更新時間:2017-11-14  【打印此頁】  【關閉
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